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    實驗型顯影機

    簡要描述:v全封閉式桌面顯影機

    基礎信息

    產品型號

    廠商性質

    代理商

    更新時間

    2024-10-22

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    詳細介紹

    v 全封閉式桌面顯影機主要用于半導體制造中晶片的顯影工藝,設備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能,并且噴嘴位置可程控移動,實現自動顯影和清洗作業

    v 支持wafer尺寸:碎片至200mm(可根據客戶需求定制四管路或更大基片)

    v 單步工藝及多步工藝可選,內置100組可編輯程序

    v 轉速分辨率:±1 RPM

    v 旋涂速度:20-3000rpm(空載)

    v 旋涂加速度:10-10,000rpm/sec(空載)

    v 工藝時間設定:0-3,000sec/step,時間設置精度: 0.1sec


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