簡要描述：l方案是適用于8吋晶圓的多腔等離子體刻蝕工藝系統(tǒng)l系統(tǒng)可用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)l系統(tǒng)兼容8吋、6吋、4吋、3吋晶圓和不規(guī)則碎片；不同尺寸樣片之間的切換、無需反應腔的開腔破真空l系統(tǒng)包括：一個六端口的轉接腔、帶機械手

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