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    離子研磨系統(tǒng)

    簡(jiǎn)要描述:v為了對(duì)樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)進(jìn)行觀察、分析

    基礎(chǔ)信息

    產(chǎn)品型號(hào)

    廠商性質(zhì)

    代理商

    更新時(shí)間

    2024-10-22

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    詳細(xì)介紹

    v 為了對(duì)樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)進(jìn)行觀察、分析,必須讓樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)顯露出來(lái),日立離子研磨裝置使用大面積低能量的Ar離子束,加工出無(wú)應(yīng)力損傷的截面,為SEM觀察樣品的內(nèi)部多層結(jié)構(gòu)、結(jié)晶狀態(tài)、 異物解析、層厚測(cè)量等提供有效的前處理方法

    v 制成的低損傷的截面便于表層以下內(nèi)部結(jié)構(gòu)分析

    v 適用樣品:電子元件如IC芯片、PCBLED等(多層、裂

    v 痕、孔洞分析)、金屬(EBSD晶體結(jié)構(gòu)、EDS元素分析、鍍 層)、高分子材料、紙、陶瓷、玻璃、粉末等

    v 可移動(dòng)的樣品座可精確定位、實(shí)現(xiàn)對(duì)特定位置的研磨

    v 樣品: 20 mm× 長(zhǎng)12 mm× 7 mm

    v 聯(lián)用樣品臺(tái)在機(jī)械研磨、離子研磨、SEM觀察(Hitachi機(jī)型)之間不用更換樣品臺(tái)


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