簡要描述：搭載場發射電子光學系統 將島津EPMA分析性能發揮到超高分辨率面分析對碳膜上Sn球放大3萬倍進行面分析

搭載場發射電子光學系統

將島津EPMA分析性能發揮到

超高分辨率面分析

對碳膜上Sn球放大3萬倍進行面分析。即使是SE圖像（左側）上直徑只有50nm左右的Sn顆粒，在X射線圖像（右側）上也是清晰可見。

■ 大束流超高靈敏度分析
實現3.0μA（加速電壓30kV）的束流。
全束流范圍無需更換物鏡光闌。

■ 最多可同時搭載5通道高性能4英寸X射線譜儀
無人可及的52.5°X射線取出角。4英寸羅蘭圓半徑兼顧高靈敏度與高分辨率。
最多可同時搭載5通道相同規格的X射線譜儀。

■ 全部分析操作簡單易懂
全部操作僅靠一個鼠標就可進行的可操作性。
追求「易懂」的人性化用戶界面。

搭載導航模式，自動指引直至生成報告。

■ 的空間分辨率

EPMA可達到的別的二次電子圖像分辨率3nm（加速電壓30kV）分析條件下的二次電子分辨率。（加速電壓10kV時20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）

■ 二次電子圖像分辨率3nm
碳噴鍍金顆粒的觀察實例。實現分辨率
3nm（@30kV）。相對較高的束流也可將電子束壓

細聚焦，更加容易的獲得高分辨率的SEM圖像

超高靈敏度面分析

使用1μA束流對不銹鋼進行5000倍的面分析。精確地捕捉到了Cr含量輕微不同形成的不同的相（左側），同時也成功地將含量不足0.1%的Mn分布呈現在我們眼前（右側）。

實現微區超高靈敏度分析的技術

1　高亮度肖特基發射體
場發射電子槍采用的肖特基發射體比一般傳統SEM使用的發射體針尖直徑更大，輸出更高。即可以保持其高亮度，還可提供高靈敏度分析的穩定大電流。

2　 EPMA專用電子光學系統
電子光學系統，聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側，交叉點不是靠聚光透鏡形成，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上，具有獨立構成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點的（日本：第4595778號）。簡單的透鏡結構，既能獲得大束流，同時全部電流條件下設定最合適的打開角度，將電子束壓縮到最細。當然是不需要更換物鏡光闌的。

3　超高真空排氣系統
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔（orifice）間隔方式的2級差動排氣系統。中間室與分析腔體間的氣流孔做到最小，以控制流入中間室的氣體，使電子槍室始終保持著超高真空，確保發射體穩定工作。

4　高靈敏度X射線譜儀
最多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號的空間分辨率的同時，又可減小樣品對X射線的吸收，實現高靈敏度的分析。