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    深硅刻蝕系統DEEP SI ETCH

    簡要描述:v應用方向:提供深硅蝕刻(DSiE)領域的MEMS

    基礎信息

    產品型號

    廠商性質

    代理商

    更新時間

    2024-10-22

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    詳細介紹

    v 應用方向:提供深硅蝕刻(DSiE)領域的MEMS,封裝和納米技術的廣泛應用,從光滑側壁工藝到高刻蝕速率腔刻蝕、高深寬比工藝和錐形通孔刻蝕,不需要更換腔室硬件就可以實現

    v 產品特點:

    ? 光滑側壁工藝

    ? 高刻蝕速率腔刻蝕

    ? 高深寬比工藝

    ? 錐形通孔刻蝕

    ? 機械或靜電壓盤,加熱內襯         

    ? 延長了兩次清洗間的平均時間間隔(MTBC環形激光陀螺反射鏡

    ? X射線光學系統

    ? 紅外(IR)傳感器

    ? II-VI族材料,通信濾波器

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