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    離子束刻蝕系統IBE

    簡要描述:v離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應用范圍廣

    基礎信息

    產品型號

    廠商性質

    代理商

    更新時間

    2024-10-22

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    詳細介紹

    v 離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應用范圍廣。我們的設備具有靈活的硬件選項,包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模式。系統配置與實際應用緊密協調,以確保獲得速率更快且重復性更好的工藝結果

    v 應用方向:

    ? 磁阻式隨機存取存儲器(MRAM

    ? 介電薄膜

    ? III-V族光電子材料刻蝕

    ? 自旋電子學

    ? 金屬電極和軌道

    ? 超導體

    ? 激光端面鍍膜

    ? 高反射(HR)膜

    ? 防反射(AR)膜

    ? 環形激光陀螺反射鏡

    ? X射線光學系統

    ? 紅外(IR)傳感器

    ? II-VI族材料

    ? 通信濾波器

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