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    電子束光刻系統

    簡要描述:v最小線寬≤8nm光柵周期≤40nmv拼接精度:100μm寫場下

    基礎信息

    產品型號

    廠商性質

    代理商

    更新時間

    2024-10-22

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    詳細介紹

    v 最小線寬8nm    光柵周期40nm

    v 拼接精度:

    100μm寫場下,拼接精度≤20nmmean+3sigma

    500μm寫場下,拼接精度≤30nmmean+3sigma

    v 套刻精度:

    100μm寫場下,拼接精度≤20nmmean+3sigma

    500μm寫場下,拼接精度≤25nmmean+3sigma

    v 束電流穩定性<0.2%/h   束位置穩定性<120nm/8h

    v 50KV加速電壓下,寫場可在0.5μm~500μm的范圍內連續可調

    v 肖特基熱場發射電子束源,加速電壓50kv,束電流范圍至少為50pA~40nA,束電流40nA

    v 圖像發生器掃描頻率50MHz20bit分辨率,最小步距為0.5nm

    v 通用樣品架可承載散片,4inch以下的襯底,4inch專用晶圓專用樣品架,6inch專用晶圓專用樣品架,多樣品專用樣品架


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